漢鐘干式螺桿真空泵在韓國ALD設備上的應用

ALD原子層沉積，又稱原子層外延，是一種基于有序、表面自限制性反應的化學氣相沉積薄膜的方法。

ALD要求，必需具有一定的飽和蒸汽壓、且在一定范圍內具有熱穩定性。最好是液態和氣態。必需在表面可化學吸收或者和表面物質快速的發生反應。無自分解狀況。可以提供原子層沉積反應的激活能量。幫助清除單原子層形成過程中的多余反應物和副產品。

目前漢鐘干式螺桿真空大量應用于ALD設備，真空泵排粉塵能力優于進口的品牌的真空泵，真空泵保養間隔周期更長。產品穩定性更好。

下圖是漢鐘干式在國內大型電池片廠中實際應用案例，應用效果非常好。